Hệ thống lắng đọng hơi vật lý PVDHệ thống lắng đọng hơi vật lý PVD

specification:
Đặc điểm:
Độ bao phủ giai đoạn tốt
Phương pháp tiêu chuẩn cho hợp kim Al chất lượng cao (bao gồm Si/CuTi), TiN, TiW
Tối đa 4 x 200mm hoặc 8 x 75mm điện cực
Mẫu được đặt trên một sân quay quay
Máy mạ có khả năng làm lạnh/ấm nước cho mẫu (lên tới 400oC)
Tiền mạ và đặt RF
Các tham số: lưu lượng khí, áp suất, công suất RF

Ứng dụng thông thường:
Hợp kim Al chất lượng cao (bao gồm Si/Cu/Ti)
Lớp chặn khử trùng: TiN, TiW (phản ứng bắn)
Màng mỏng điện trở (NiCr, TaN)
Kim loại quý: Au, Pt

Contact window: sales@scientek-co.com

DESCRIPTION

Mô tả sản phẩm:
Phủ mạ Vật lý (PVD)

Đặc điểm:
Độ bao phủ giai đoạn tốt
Phương pháp tiêu chuẩn cho hợp kim Al chất lượng cao (bao gồm Si/CuTi), TiN, TiW
Tối đa 4 x 200mm hoặc 8 x 75mm điện cực
Mẫu được đặt trên một sân quay quay
Máy mạ có khả năng làm lạnh/ấm nước cho mẫu (lên tới 400oC)
Tiền mạ và đặt RF
Các tham số: lưu lượng khí, áp suất, công suất RF

Ứng dụng thông thường:
Hợp kim Al chất lượng cao (bao gồm Si/Cu/Ti)
Lớp chặn khử trùng: TiN, TiW (phản ứng bắn)
Màng mỏng điện trở (NiCr, TaN)
Kim loại quý: Au, Pt