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電子顯微鏡高解析度Osmium鍍膜機電子顯微鏡高解析度Osmium鍍膜機
特色與效益 來自日本第一品牌，超過50年電子顯微鏡前處理鍍膜技術。_無樣品熱傷害問題，提供36°C低溫製程下平坦薄膜。
_取代傳統鉑(Pt)與金(Au)膜，無電荷累積並避免高能電子束傷害樣品。
_無粒度與團聚現象，提供0.25nm均勻薄膜。
_高解析觀測，利用氣相沈積，完整包覆多孔性等特結構樣品與元件。
_快速省時，縮短樣品處理時程。
DESCRIPTION
產品敘述
_無樣品熱傷害問題，提供36°C低溫製程下平坦薄膜。
_取代傳統鉑(Pt)與金(Au)膜，無電荷累積並避免高能電子束傷害樣品。
_無粒度與團聚現象，提供0.25nm均勻薄膜。
_高解析觀測，利用氣相沈積，完整包覆多孔性等特結構樣品與元件。
_快速省時，縮短樣品處理時程。
