代理產品/ BRANDS /
物理氣相沉積系統PVD物理氣相沉積系統PVD
特色與效益 典型應用：高質量Al（含Si/Cu/Ti）
擴散阻擋層TiN、TiW（反應濺射）
電阻薄膜 （NiCr、TaN）
貴金屬：Au、Pt
DESCRIPTION
產品敘述
物理氣相沉積（PVD）
良好的階梯覆蓋率
針對高質量Al（含Si/CuTi）、TiN、TiW的標准方法
最大 4 x 200mm 或 8 x 75mm陰極
襯底置於旋轉座上
襯底座可以水冷卻/加熱（最高400oC）
預刻蝕和射頻偏壓
參數：氣流、壓強、射頻功率
