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X선 광전자 분광법 / 화학 분석을 위한 전자 분광법X선 광전자 분광법 / 화학 분석을 위한 전자 분광법
Features and benefits표면 분석을 위한 계측
표면 화학 및 박막 특성화
표면의 정량적, 화학적 식별
Contact window:sales@scientek-co.com
DESCRIPTION
X선 광전자 분광법(XPS, 화학 분석을 위한 전자 분광법 – ESCA라고도 함)은 광범위한 재료 문제를 해결하는 데 사용할 수 있는 매우 표면에 민감한 정량적 화학 분석 기술입니다.
XPS는 X선을 조사한 물질의 표면에서 방출된 광전자를 측정한 것입니다. 방출된 광전자의 운동 에너지가 측정되며, 이는 모원자 내의 결합 에너지와 직접적으로 관련됩니다. 이것은 원소의 특성과 화학적 상태입니다.표면 근처에서 생성된 전자만이 검출을 위해 너무 많은 에너지를 잃지 않고 탈출할 수 있습니다. 이는 XPS 데이터가 표면의 상위 몇 나노미터에서 수집됨을 의미합니다. 정량적 화학적 상태 식별과 결합된 이러한 표면 선택성은 XPS를 다양한 응용 분야에서 매우 유용하게 만듭니다.
Nexsa XPS 시스템 - 고유한 상관 분광법
원활한 다중 기술 통합이 가능한 고성능 XPSThermo Scientific™ Nexsa™ 표면 분석 시스템은 완전히 자동화된 다중 기술 기기입니다. 새로운 미세 초점 X선 소스를 갖추고 있어 고감도 및 고공간 분해능 XPS를 모두 제공합니다. 또한 이 시스템은 UPS, ISS 및 REELS와 같은 다른 표면 분석 기술에 대한 옵션을 제공합니다. 유일하게 진정한 상관 분광법을 위해 XPS 분석 위치에 정렬된 라만 분광계를 통합하는 옵션도 있습니다. 이러한 기능을 통해 Nexsa는 반도체, 2D 재료, 박막, 배터리, 폴리머 및 기타 여러 응용 분야에서 새로운 통찰력을 얻을 수 있는 가능성을 열어줍니다.
• 고성능 XPS
• 신속한 SnapMap XPS 이미징
• 깊이 프로파일링
• 선택적 다중 기술 통합
––Raman
––ISS
––UPS
––REELS
• 확장된 깊이 프로파일링 기능을 위한 MAGCIS 이온 소스
• 대규모 샘플 처리
• 기기 제어, 데이터 처리 및 보고를 위한 Avantage 소프트웨어
• 공기에 민감한 샘플을 위한 선택적 전송 기능