Thông tin sản phẩm/ PRODUCTS /Hệ thống đo căng bề mặt trực tuyến SITA (Đo trong quá trình sản xuất)

DESCRIPTION

Hệ thống đo căng bề mặt SITA trực tuyến được áp dụng trong ngành công nghiệp vệ sinh, công nghệ bề mặt, bán dẫn, điện tử quang và ngành hóa chất để đo căng bề mặt của chất lỏng trong quá trình sản xuất liên tục tự động.

Hệ thống đo trực tuyến SITA đo ngay lập tức nồng độ chất hoạt động bề mặt, chất ẩm và dung môi, và ghi lại dữ liệu. Hệ thống đo căng bề mặt SITA trực tuyến kết nối với trung tâm điều khiển/giám sát của nhà máy và tự động bổ sung chất hoạt động bề mặt dựa trên mức tiêu thụ.

Thiết bị đo căng bề mặt trực tuyến SITA hoạt động hoàn toàn tự động, bao gồm:

• Phân tích đo tự động của chất lỏng trong quá trình sản xuất;
• Chức năng tự làm sạch;
• Hiệu chuẩn cảm biến căng bề mặt;
• Tự chẩn đoán, bao gồm chỉ báo lỗi và ghi lại lỗi.

Mẫu chất lỏng trong quá trình sản xuất có thể được tái sử dụng hoặc xả đi, không cần thiết bị bổ sung ngoại trừ thiết bị cung cấp nước.

Kết hợp với máy tính điều khiển công nghiệp hoặc hệ thống SPS với màn hình cảm ứng, bộ điều khiển trung tâm SITA Clean Line CC có thể thực hiện các giải pháp cụ thể cho hệ thống quy trình.

Để đảm bảo rằng thiết bị đo căng bề mặt trực tuyến của chúng tôi phù hợp với quy trình sản xuất của bạn, kỹ sư ứng dụng của SITA sẽ phát triển giải pháp tùy chỉnh trực tuyến tốt nhất dựa trên công nghệ và thiết bị của khách hàng.

Ứng dụng:

• Sơn/mực in: Căng bề mặt động của mực ảnh hưởng đến các đặc tính khác nhau như tính ẩm, kích thước giọt mực, tính thấm, khô và khả năng trải.
• Giám sát quy trình vệ sinh: Việc xử lý bề mặt kim loại hoặc phun sơn trước khi được thực hiện trên các bộ phận kim loại phải đảm bảo sạch sẽ để không ảnh hưởng đến các quy trình sau. Giám sát căng bề mặt động liên tục để kiểm soát nồng độ chất hoạt động bề mặt, từ đó xác định khả năng vệ sinh của bể vệ sinh. Nồng độ chất hoạt động bề mặt trong chất tẩy rửa phải được duy trì trong khoảng nồng độ phù hợp, không quá cao và không quá thấp, nồng độ quá cao sẽ dẫn đến ô nhiễm mới, làm tăng chi phí sản xuất; quá thấp sẽ không đạt yêu cầu vệ sinh.
• Bán dẫn: Thêm chất lỏng đặc biệt để cắt lát wafer và chất lỏng mài bóng CMP.
• Bán dẫn: Dung dịch hydroxit tetramethylammonium (TMAH) là chất thể hiện thường được sử dụng trong quá trình ets, việc giám sát căng bề mặt chất hoạt động giúp đảm bảo quá trình ets ổn định.