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System 100-等离子刻蚀与沉积设备
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System 133-300毫米大批量等离子体刻蚀与沉积设备
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电浆增强化学气相沉积系统(PECVD）
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电浆增强化学气相沉积系统PP1000 PECVD
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物理气相沉积系统PVD
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原子层沉积系统FlexAL ALD
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