电子显微镜高分辨率Osmium镀膜机电子显微镜高分辨率Osmium镀膜机

特色與效益 来自日本第一品牌,超过50年电子显微镜前处理镀膜技术。

_无样品热伤害问题,提供36°C低温制程下平坦薄膜。
_取代传统铂(Pt)与金(Au)膜,无电荷累积并避免高能电子束伤害样品。
_无粒度与团聚现象,提供0.25nm均匀薄膜。
_高解析观测,利用气相沈积,完整包覆多孔性等特结构样品与组件。
_快速省时,缩短样品处理时程。
 
 
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DESCRIPTION

​产品叙述
_无样品热伤害问题,提供36°C低温制程下平坦薄膜。
_取代传统铂(Pt)与金(Au)膜,无电荷累积并避免高能电子束伤害样品。
_无粒度与团聚现象,提供0.25nm均匀薄膜。
_高解析观测,利用气相沈积,完整包覆多孔性等特结构样品与组件。
_快速省时,缩短样品处理时程。