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物理气相沉积系统PVD物理气相沉积系统PVD
特色與效益 典型应用：高质量Al（含Si/Cu/Ti）
扩散阻挡层TiN、TiW（反应溅射）
电阻薄膜 （NiCr、TaN）
贵金属：Au、Pt
DESCRIPTION
产品叙述
物理气相沉积（PVD）
良好的阶梯覆盖率
针对高质量Al（含Si/CuTi）、TiN、TiW的标准方法
最大 4 x 200mm 或 8 x 75mm阴极
衬底置于旋转座上
衬底座可以水冷却/加热（最高400oC）
预刻蚀和射频偏压
参数：气流、压强、射频功率
