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电子显微镜高分辨率Osmium镀膜机电子显微镜高分辨率Osmium镀膜机
規格：
来自日本第一品牌，超过50年电子显微镜前处理镀膜技术。
特色：
- 无电荷累积问题，可避免样品伤害。
- 无样品热伤害问题，适合光阻、高分子材料、生物样品等低温需求样品。
- 0.25nm 均匀薄膜，无粒状分布，可达到表面完整结构之检测。
- PECVD技术，适合多孔性复杂结构完整包覆，达到凹凸面微细结构检测。
- 快速省时，达到实时性检测。
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DESCRIPTION
来自日本第一品牌，超过50年电子显微镜前处理镀膜技术。特色：
- 无电荷累积问题，可避免样品伤害。
- 无样品热伤害问题，适合光阻、高分子材料、生物样品等低温需求样品。
- 0.25nm 均匀薄膜，无粒状分布，可达到表面完整结构之检测。
- PECVD技术，适合多孔性复杂结构完整包覆，达到凹凸面微细结构检测。
- 快速省时，达到实时性检测。
