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物理气相沉积系统PVD物理气相沉积系统PVD
規格:
良好的阶梯覆盖率
针对高质量Al(含Si/CuTi)、TiN、TiW的标准方法
最大 4 x 200mm 或 8 x 75mm阴极
衬底置于旋转座上
衬底座可以水冷却/加热(最高400oC)
预刻蚀和射频偏压
参数:气流、压强、射频功率
典型应用:
高质量Al(含Si/Cu/Ti)
扩散阻挡层TiN、TiW(反应溅射)
电阻薄膜 (NiCr、TaN)
贵金属:Au、Pt
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