ข้อมูลผลิตภัณฑ์ / PRODUCTS /เครื่องเคลือบโอซเมียมสำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนความละเอียดสูง
เครื่องเคลือบโอซเมียมสำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนความละเอียดสูงเครื่องเคลือบโอซเมียมสำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนความละเอียดสูง
specification：
มาจากแบรนด์ชั้นนำของญี่ปุ่น มีเทคโนโลยีการเตรียมก่อนใช้งานและเคลือบฟิล์มด้วยอิเล็กตรอนกว่า 50 ปี
คุณสมบัติ:
- ไม่มีปัญหาการสะสมชาร์จ ช่วยลดความเสียหายของตัวอย่าง
- ไม่มีปัญหาการทำลายตัวอย่างด้วยความร้อน เหมาะสำหรับตัวอย่างที่ต้องการอุณหภูมิต่ำ เช่น ฟอโตเรสิสต์ วัสดุพอลิเมอร์ และตัวอย่างชีวภาพ
- ฟิล์มบางความหนา 0.25 นาโนเมตร มีความเสถียรและไม่มีการกระจายอนุภาค สามารถตรวจจับโครงสร้างผิวที่สมบูรณ์แบบ
- ใช้เทคโนโลยี PECVD สามารถเคลือบโครงสร้างที่ซับซ้อนและมีรูปทรงต่าง ๆ ให้ครอบคลุมอย่างครบถ้วน สามารถตรวจจับโครงสร้างเล็ก ๆ บนพื้นผิวได้
- มีความเร็วและประหยัดเวลา ให้การตรวจวัดเป็นเรียลไทม์ได้
Contact window： sales@scientek-co.com
DESCRIPTION
มาจากแบรนด์ชั้นนำของญี่ปุ่น มีเทคโนโลยีการเตรียมก่อนใช้งานและเคลือบฟิล์มด้วยอิเล็กตรอนกว่า 50 ปี
คุณสมบัติ:
- ไม่มีปัญหาการสะสมชาร์จ ช่วยลดความเสียหายของตัวอย่าง
- ไม่มีปัญหาการทำลายตัวอย่างด้วยความร้อน เหมาะสำหรับตัวอย่างที่ต้องการอุณหภูมิต่ำ เช่น ฟอโตเรสิสต์ วัสดุพอลิเมอร์ และตัวอย่างชีวภาพ
- ฟิล์มบางความหนา 0.25 นาโนเมตร มีความเสถียรและไม่มีการกระจายอนุภาค สามารถตรวจจับโครงสร้างผิวที่สมบูรณ์แบบ
- ใช้เทคโนโลยี PECVD สามารถเคลือบโครงสร้างที่ซับซ้อนและมีรูปทรงต่าง ๆ ให้ครอบคลุมอย่างครบถ้วน สามารถตรวจจับโครงสร้างเล็ก ๆ บนพื้นผิวได้
- มีความเร็วและประหยัดเวลา ให้การตรวจวัดเป็นเรียลไทม์ได้
