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System 100-等離子刻蝕與沉積設備
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System 133-300毫米大批量等離子體刻蝕與沉積設備
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電漿增強化學氣相沉積系統(PECVD）
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電漿增強化學氣相沉積系統PP1000 PECVD
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物理氣相沉積系統PVD
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原子層沉積系統FlexAL ALD
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